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高頻等離子設備應用范圍

    高頻等離子感應加熱設備是利用真空管式高頻振蕩器在輸出工作線圈上產生較強的高頻、高壓電磁場，使定向流經工作線圈內的氬氣、氧氣、氮氣、壓縮空氣，迅速電離點燃后形成高溫等離子火炬，亦稱射頻等離子炬。其核心溫度可達20000℃。廣泛用于耐高溫石英玻璃沉積、制備難熔金屬納米粉體，氧化物、氮化物、碳化物等納米粉體及上述粉末的球化處理，同時也應用于多晶硅的區(qū)熔、拉伸等工藝。

    功率：8KW~200KW

    頻率：1MHZ~6MHZ

高頻等離子設備應用現場